[发明专利]基板处理装置、方法、系统以及学习用数据的生成方法在审

专利信息
申请号: 202011559598.X 申请日: 2020-12-25
公开(公告)号: CN113053780A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 犹原英司;太田乔;池内崇;中村康则 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/306
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马爽;臧建明
地址: 日本京都府京都市上京区堀*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种基板处理装置、基板处理方法、基板处理系统以及学习用数据的生成方法。基板处理装置包括喷嘴、移动机构、存储部及控制部。移动机构使喷嘴移动。存储部存储学习完毕模型。学习完毕模型是通过将表示喷嘴的移动速度的学习对象速度信息与处理量作为学习用数据进行学习而生成,所述处理量是以基于学习对象速度信息的速度来使喷嘴移动并对学习对象基板执行处理而获取。控制部将处理量的目标量输入至学习完毕模型,由此,从学习完毕模型输出处理时速度信息。控制部在对处理对象基板执行处理时,控制移动机构,以使喷嘴以基于处理时速度信息的速度而移动。处理时速度信息表示喷嘴的移动速度。
搜索关键词: 处理 装置 方法 系统 以及 习用 数据 生成
【主权项】:
暂无信息
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