[发明专利]一种曝光位置的确定方法及系统有效
| 申请号： | 202011579234.8 | 申请日： | 2020-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN112269304B | 公开（公告）日： | 2021-04-27 |
| 发明（设计）人： | 胡周;徐东东 | 申请（专利权）人： | 晶芯成（北京）科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/66 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 朱艳 |
| 地址： | 102199 北京市大兴区经济技术开发*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光位置的确定方法及系统，其包括：根据芯片尺寸，确定中心裸片的移动范围以及移动次数；获取所述中心裸片在移动到每个位置时，晶圆上的芯片总数量，并将所述芯片总数量最大时的所述中心裸片的位置作为最优中心裸片位置；获取中心曝光场的初始位置、移动范围以及移动次数；获取所述中心曝光场移动到每个位置时，所述晶圆上的曝光场总数量，将所述曝光场总数量最少时，中心曝光场的位置作为最优中心曝光场位置；其中，在获取所述曝光场总数量时，当所述曝光场的曝光场收益小于曝光场成本时，该曝光场不计在所述曝光场总数量中。通过本发明提供的一种曝光位置的确定方法及系统，可使生产效益最大化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 位置 确定 方法 系统 | ||
【主权项】：
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