[发明专利]一种沉积装置及系统在审

专利信息
申请号: 202011584038.X 申请日: 2020-12-28
公开(公告)号: CN112813417A 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 连水养;许嘉巡;赵铭杰 申请(专利权)人: 厦门理工学院
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 厦门智慧呈睿知识产权代理事务所(普通合伙) 35222 代理人: 郭福利
地址: 361024 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提供了一种沉积装置及系统,包括:多个喷射组件、与所述喷射组件电气连接的电源模块、以及可移动配置在所述喷射组件下方用于放置衬底的载台;其中,每一所述喷射组件包括沿第一方向排列的第一喷射源、隔离组件、解离喷射源;所述第一喷射源;用于喷射金属化合物;所述解离喷射源;用于喷射等离子体气体;所述隔离组件;配置在所述第一喷射源和所述解离喷射源之间,用于分隔所述第一喷射源和所述解离喷射源。解决了现有空间原子沉积系统沉积的薄膜质量差、速率低的问题。
搜索关键词: 一种 沉积 装置 系统
【主权项】:
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