[发明专利]提高LPCVD部品洗净能力的清洗机结构及其清洗方法有效
| 申请号： | 202011592582.9 | 申请日： | 2020-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN112756339B | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 戚定定 | 申请（专利权）人： | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B9/023 | 分类号： | B08B9/023;B08B9/032;B08B13/00;F26B5/00;F26B21/00;F26B21/14 |
| 代理公司： | 杭州融方专利代理事务所(普通合伙) 33266 | 代理人： | 沈相权 |
| 地址： | 311201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种提高LPCVD部品洗净能力的清洗机结构及其清洗方法，所属炉芯管清洗设备技术领域，包括清洗槽，所述的清洗槽下部设有与清洗槽呈一体化焊接的清洗槽底板，所述的清洗槽内设有炉芯管，所述的炉芯管与清洗槽底板间设有升降气缸架，所述的升降气缸架与炉芯管间设有右升降气缸和左升降气缸，所述的右升降气缸与炉芯管间、左升降气缸与炉芯管间均设有托板，所述的清洗槽底板下端设有与清洗槽底板通过连通的排液管，所述的排液管上设有与排液管通过管路连通的总阀。具有结构简单、操作便捷、运行稳定性好和节能减排的特点。解决了干燥不彻底的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 lpcvd 洗净 能力 清洗 结构 及其 方法 | ||
【主权项】：
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