[发明专利]一种高比电容电容器阴极用铝箔及其制备工艺有效
| 申请号： | 202011601852.8 | 申请日： | 2020-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN112582182B | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 韩山;时新举 | 申请（专利权）人： | 郑州金辉新能源电子材料有限公司 |
| 主分类号： | H01G9/045 | 分类号： | H01G9/045;H01G9/042;H01G9/15;C22C21/18;C22C21/16;C22C21/14;C22C21/00;C22F1/057;C22F1/04 |
| 代理公司： | 郑州科硕专利代理事务所(普通合伙) 41157 | 代理人： | 汪镇 |
| 地址： | 450100 河南省郑州市荥阳市五*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种高比电容电容器阴极用铝箔及其制备工艺，该铝箔中各原料的重量百分比如下：Si 0.1~0.3％，Fe 0.1~0.3％，Cu 0.4~0.6％，Mn 0.5％，Mg 0.05％，Zn 0.07％，Ti 0.03％，余量为Al；该铝箔的制备工艺包括熔铸、热轧、冷轧、均匀化退火、箔轧五个步骤。本发明制得的铝箔比电容高，厚度为0.022mm的铝箔的比电容为170‑180μF/cm |
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| 搜索关键词： | 一种 电容 电容器 阴极 铝箔 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】：
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