[发明专利]一种芯片制备用硅晶片加工装置及加工工艺在审
申请号: | 202011641584.2 | 申请日: | 2020-12-31 |
公开(公告)号: | CN112838045A | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
发明(设计)人: | 徐振标;王锋 | 申请(专利权)人: | 六安优云通信技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 237000 安徽省六安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及硅晶片加工装置技术领域,公开了一种芯片制备用硅晶片加工装置及加工工艺,通过打磨盘对硅晶圆进行打磨,启动增压泵,水箱内的水排进进水管内,通过进水管进而排进增压泵内,经过增压泵的增压作用,将冷却液排进出水管,最后经过多孔喷头喷出,从而在打磨时实现对硅晶圆的水冷降温作用,联轴器带动输入轴转动,输入轴带动第一主动皮带轮和第二主动皮带轮转动,第一主动皮带轮和第二主动皮带轮通过第一传动皮带和第二传动皮带分别带动第一从动皮带轮和第二从动皮带轮转动,进而使得第一转轴和第二转轴转动,从而使得两个散热扇转动,通过散热扇转动能够对打磨时产生的碎屑进行处理,防止碎屑影响打磨视线。 | ||
搜索关键词: | 一种 芯片 制备 晶片 加工 装置 工艺 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造