[实用新型]一种CVD碳化硅进气系统

摘要

本实用新型涉及CVD碳化硅生产技术领域，尤其是一种CVD碳化硅进气系统，包括反应腔和混气罐，所述混气罐一侧固定连通有三个供气管，所述混气罐另一侧固定连通有进气管，所述反应腔一侧设置有真空泵，所述反应腔上还固定连通有出气管，所述反应腔外侧壁上呈周向均匀地固定连接有若干个固定机构，若干个所述固定机构上固定连接有通气管道，且所述通气管道缠绕在所述反应腔外侧壁上，所述进气管与所述通气管道之间相互连通，所述通气管道内侧呈周向均匀地固定连通有三个进气口，且三个所述进气口均分别与所述反应腔相连通。该CVD碳化硅进气系统通过多孔进气的方式，从而能够有效地解决了工件表面cvd沉积厚度不均匀的问题，实用性强。