[实用新型]一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉有效
| 申请号： | 202020117395.4 | 申请日： | 2020-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN211903701U | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 程革;吴振磊;孔德惠;吴冰;张天龙;于洪斌;刘鹏程;陶崇浩;李天华;赵嘉明;韩凤;何晓棠 | 申请（专利权）人： | 沈阳沈真真空技术有限责任公司 |
| 主分类号： | F27B5/05 | 分类号： | F27B5/05;F27B5/06;F27B5/14;F27B5/18 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 何丽英 |
| 地址： | 110108 辽宁省沈阳市苏家屯区清*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型属于真空炉设备技术领域，具体地说是一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉。包括电控系统、炉壳、加热室、真空系统及多组发热组件，其中加热室设置于炉壳内，多组发热组件设置于加热室内，并且与电控系统连接，真空系统与炉壳连接，用于对炉壳内进行抽真空，电控系统用于控制真空系统及多组发热组件。本实用新型整个工作过程安全性好，操作简单，产品质量好，成品率高，设备整体寿命长，易维修，生产温度阈值上限高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 反应 烧结 碳化硅 制品 真空炉 | ||
【主权项】：
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