[实用新型]一种2050nm激光偏振膜有效

专利信息
申请号: 202020190502.6 申请日: 2020-02-20
公开(公告)号: CN211263842U 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 岳威;张永久;韩永昶;张阔;刘连泽;李金岩 申请(专利权)人: 北京华北莱茵光电技术有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30
代理公司: 北京天江律师事务所 11537 代理人: 任崇
地址: 100020 北京市朝*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型公开了一种2050nm激光偏振膜,该激光偏振膜的膜系结构为:Sub|(HL)^s H|Air,其中,基底材料Sub为CaF2,H代表高折射率膜层材料为Ta2O5,L代表低折射率膜层材料为SiO2,s为周期数。本实用新型主要针对2050nm的激光波长,提供一种在布儒斯特角度(55°)范围内工作的激光偏振膜,达到一定范围内的光透过偏振能量高度分离,可广泛应用于2050nm工作波长各类激光器,探测装置、生化分析、光谱分析、机器视觉以及其它光学系统。
搜索关键词: 一种 2050 nm 激光 偏振
【主权项】:
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