[实用新型]一种MOCVD反应室粉尘清理装置

摘要

本实用新型半导体设备领域，尤其涉及一种MOCVD反应室粉尘清理装置，用于清理MOCVD产生的粉尘，至少包括第一管路、收集机构、回收机构、第二管路、过滤装置和电机，其特征在于：所述收集机构和回收机构之间还包括喷砂机构，所述喷砂机构包括内壁、外壁、上盖板和下盖板，所述上盖板和下盖板可活动地分别位于内壁和外壁的上端和下端，且与内壁和外壁围成腔室，所述腔室内存放阻火介质，所述喷砂机构中间具有贯穿的开口，收集机构内底部插入开口内，粉尘穿过开口进入回收机构内。本实用新型可以实现清理MOCVD反应室的粉尘，解决粉尘易燃问题，减少机台待机时间，进而提升产能。