[实用新型]存储器制作装置有效
申请号: | 202020246978.7 | 申请日: | 2020-03-03 |
公开(公告)号: | CN212426177U | 公开(公告)日: | 2021-01-29 |
发明(设计)人: | 涂飞飞;王新胜;王雄禹 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/50;H01L21/67 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 刘恋;张颖玲 |
地址: | 430074 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本公开实施例公开了一种存储器制作装置,包括:容腔;托盘,位于所述容腔内;一个或多个第一类喷嘴,位于所述容腔内;一个或多个第二类喷嘴,位于所述容腔内;其中,所述第一类喷嘴的喷气口与所述托盘的中心之间的第一距离为第一距离,所述第二类喷嘴的喷气口与所述托盘的中心之间的距离为第二距离;所述第二距离为一数值,所述第二距离小于所述第一距离;或者,所述第二类喷嘴为活动喷嘴,使得所述第二距离为若干个数值构成的组合或为数值范围,所述第二距离中的最小值小于所述第一距离;所述第一类喷嘴和所述第二类喷嘴,用于喷出第一气体。 | ||
搜索关键词: | 存储器 制作 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的