[实用新型]一种用于射频磁控溅射仪的升降装置有效
| 申请号： | 202020317994.0 | 申请日： | 2020-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN211713194U | 公开（公告）日： | 2020-10-20 |
| 发明（设计）人： | 郭俊春 | 申请（专利权）人： | 重庆盛科纳科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 重庆千石专利代理事务所(普通合伙) 50259 | 代理人： | 黄莉 |
| 地址： | 400000 重庆市九*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于射频磁控溅射仪的升降装置，包括工作台，所述工作台上放置有溅射仪，该溅射仪设有真空室，所述真空室内设置有载物台及靶头，基片承载在所述载物台上，其特征在于：所述载物台旋转设置在所述真空室内，且所述靶头设置在所述载物台上方；所述工作台上还固定有气动伸缩装置，该气动伸缩装置包括气动伸缩杆，所述气动伸缩杆顶部栓接有定位柱，该定位柱底部栓接有止挡块，在所述止挡块内部穿设定位轴，且该定位轴的顶部与所述定位柱底部栓接，所述定位轴的底部与所述靶头栓接固定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 射频 磁控溅射 升降 装置 | ||
【主权项】：
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