[实用新型]应用于真空镀膜机内的基片承载遮蔽装置有效
| 申请号： | 202020336314.X | 申请日： | 2020-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN211921682U | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 温艳玲;焦晓希;张学智 | 申请（专利权）人： | 河北冠靶科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 | 代理人： | 张雄 |
| 地址： | 052360 河北省石家*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本申请涉及基片镀膜技术领域，并公开了一种应用于真空镀膜机内的基片承载遮蔽装置，包括固定在镀膜机腔室外部顶端的支撑板、位于镀膜机腔室内的基片台、罩在基片台外的遮挡罩、用于驱动遮挡罩旋转的第一驱动装置和用于驱动基片台旋转的第二驱动装置，第一驱动装置的顶端与支撑板相连接，第一驱动装置的底端与遮挡罩连接，第二驱动装置连接在基片台的下方，基片台的每个侧壁上均可放置有基片，遮挡罩的侧壁上设置有开口，开口尺寸大于基片的尺寸且小于或等于基片台侧壁的尺寸。如此设置，解决了在对装有多个基片的基片台上的任一基片镀膜时，由于靶材遮挡罩打开引起的腔内气体不均匀而导致基片的膜层厚度及颜色不均匀、严重影响膜层质量的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 应用于 真空镀膜 承载 遮蔽 装置 | ||
【主权项】：
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