[实用新型]一种离化源靶块用水冷镀膜结构有效
申请号: | 202020351824.4 | 申请日: | 2020-03-19 |
公开(公告)号: | CN211843515U | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
发明(设计)人: | 李石豹 | 申请(专利权)人: | 遵化市洪晟霖翼钛金设备有限公司 |
主分类号: | B32B17/06 | 分类号: | B32B17/06;B32B7/12;B32B9/04;B32B9/00;B32B3/08;B32B3/28;B32B33/00 |
代理公司: | 北京化育知识产权代理有限公司 11833 | 代理人: | 尹均利 |
地址: | 064200 河北*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种离化源靶块用水冷镀膜结构,包括主膜体、钢化耐磨层、光源吸收层、膜体隔离层和中心膜片,所述主膜体内部的中心位置处设有中心膜片,且中心膜片一侧的主膜体内部设有上膜体基层,并且上膜体基层远离中心膜片一侧的主膜体内部设有光源吸收层,所述光源吸收层的内部设有光变结构,且光源吸收层远离上膜体基层一侧的主膜体内部设有钢化耐磨层,并且钢化耐磨层的内部设有耐磨结构,中心膜片远离上膜体基层一侧的主膜体内部设有下膜体基层。本实用新型不仅确保了镀膜结构使用时离化源靶块的完整性,避免了镀膜结构使用时对观测者出现干扰的现象,而且延长了镀膜结构的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 一种 离化源靶块用 水冷 镀膜 结构 | ||
【主权项】:
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