[实用新型]一种离化源靶块用水冷镀膜结构有效

专利信息
申请号: 202020351824.4 申请日: 2020-03-19
公开(公告)号: CN211843515U 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 李石豹 申请(专利权)人: 遵化市洪晟霖翼钛金设备有限公司
主分类号: B32B17/06 分类号: B32B17/06;B32B7/12;B32B9/04;B32B9/00;B32B3/08;B32B3/28;B32B33/00
代理公司: 北京化育知识产权代理有限公司 11833 代理人: 尹均利
地址: 064200 河北*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 实用新型公开了一种离化源靶块用水冷镀膜结构,包括主膜体、钢化耐磨层、光源吸收层、膜体隔离层和中心膜片,所述主膜体内部的中心位置处设有中心膜片,且中心膜片一侧的主膜体内部设有上膜体基层,并且上膜体基层远离中心膜片一侧的主膜体内部设有光源吸收层,所述光源吸收层的内部设有光变结构,且光源吸收层远离上膜体基层一侧的主膜体内部设有钢化耐磨层,并且钢化耐磨层的内部设有耐磨结构,中心膜片远离上膜体基层一侧的主膜体内部设有下膜体基层。本实用新型不仅确保了镀膜结构使用时离化源靶块的完整性,避免了镀膜结构使用时对观测者出现干扰的现象,而且延长了镀膜结构的使用寿命。
搜索关键词: 一种 离化源靶块用 水冷 镀膜 结构
【主权项】:
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