[实用新型]一种用以X射线荧光光谱测定杂质元素的熔融制样装置有效

专利信息
申请号: 202020382176.9 申请日: 2020-03-23
公开(公告)号: CN211785233U 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 尹戈;王清乐;唐开尧;罗莹;曾明龙 申请(专利权)人: 重庆地之源地质工程检测有限公司
主分类号: G01N23/2202 分类号: G01N23/2202;G01N23/223;G01N1/44;G01N1/42
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 400050 重庆市九*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 实用新型涉及一种用以X射线荧光光谱测定杂质元素的熔融制样装置,其包括机体,所述机体的一侧开设有用以熔样的熔样室,所述熔样室底壁上设置若干放置台,所述放置台内部开设有放置槽,所述放置槽内放置有用以熔样的坩埚,且所述放置槽内设置有用以对坩埚进行加热高频加热线圈,所述机体上设置有用以带走熔样室热量的换热器,所述换热器内流通有制冷剂。本实用新型的优点是:可提高坩埚的冷却速率,进而提升制样效率。
搜索关键词: 一种 用以 射线 荧光 光谱 测定 杂质 元素 熔融 装置
【主权项】:
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