[实用新型]一种具有检测装置的磁控溅射靶

摘要

本实用新型公开了一种具有检测装置的磁控溅射靶，包括真空腔体、靶材、靶座、连接座和水冷背板，所述真空腔体底部的中心位置处安装有靶座，且真空腔体底部的两内侧壁上皆固定有连接座，连接座的一端与靶座的外壁相触碰，并且连接座下方的靶座外壁上设有安装结构，所述靶座内部的顶端安装有靶材，且靶材下方的靶座内部安装有水冷背板，并且水冷背板底端的两侧皆设有流通管槽，流通管槽的底端延伸至靶座的外部，流通管槽底端的中心位置处安装有塞头，靶座底端的中心位置处安装有警报器。本实用新型不仅提高了磁控溅射靶使用时的精准性，延长了磁控溅射靶的使用寿命，而且提高了磁控溅射靶使用时的便捷性。