[实用新型]一种基于沙姆定律的平面足迹倾斜拍摄系统有效
| 申请号： | 202020403180.9 | 申请日： | 2020-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN211744567U | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | 丁茂峦;彭湘洲;张哲;张大勇;陈家卫;胡书良 | 申请（专利权）人： | 北京远心科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H04N5/225 | 分类号： | H04N5/225;G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京八月瓜知识产权代理有限公司 11543 | 代理人： | 李斌 |
| 地址： | 100070 北京市丰*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种基于沙姆定律的平面足迹倾斜拍摄系统，包括外壳、镜头、摄像头、反射镜及照明装置，所述外壳无底面，所述照明装置与所述外壳相连接，用于为所述拍摄系统提供照明光源，所述镜头、摄像头及反射镜均位于所述外壳内部同一侧区域，拍摄时，所述外壳罩于足迹平面上方，使所述镜头及摄像头位于足迹的斜上方，足迹平面经反光镜进行光线反射并通过所述镜头在所述摄像头的感光面上成像，通过调节所述镜头及所述摄像头的角度，使所述足迹平面在所述反射镜中所成像平面、所述镜头表面及所述摄像头的感光面三者分别所在的平面相交于同一直线。本实用新型利用沙姆定律，以特定焦距角度位置进行拍摄，可得到全面清晰的足迹图像。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 定律 平面 足迹 倾斜 拍摄 系统 | ||
【主权项】：
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