[实用新型]镀膜设备有效
申请号: | 202020430990.3 | 申请日: | 2020-03-30 |
公开(公告)号: | CN212199400U | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 林育正;陈麒麟 | 申请(专利权)人: | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 张建珍 |
地址: | 518118 广东省深圳市坪山*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种镀膜设备,包括真空腔体、离子镀膜源、导电部和保持部;离子镀膜源设于真空腔体内,设置为提供离子化的成膜粒子;导电部设于真空腔体内且与离子镀膜源相对设置,设置为在镀膜过程被施加相反于成膜粒子的电性的偏压,以吸引成膜粒子朝导电部方向移动;保持部用于承载基材,以将基材置于离子镀膜源和导电部之间,并使基材的待镀膜表面和离子镀膜源相对。本实用新型镀膜设备能够有效沉积镀膜,减少材料浪费。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
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