[实用新型]半导体装置有效

专利信息
申请号: 202020529398.9 申请日: 2020-04-10
公开(公告)号: CN212461692U 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 小野寺凉;花田明纮;田中仁 申请(专利权)人: 株式会社日本显示器
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32;G02F1/1368
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 实用新型涉及半导体装置。课题为在使用由多晶硅形成的TFT和由氧化物半导体形成的TFT的半导体装置中,能够减少层数并降低制造成本。解决手段为半导体装置,其具有第一TFT和第二TFT,所述第一TFT具有由第一多晶硅(102)形成的沟道、且在源极及漏极具有对所述第一多晶硅赋予导电性而得的第二多晶硅,所述第二TFT具有由氧化物半导体(108)形成的沟道和对所述氧化物半导体赋予导电性而得的源极及漏极,半导体装置的特征在于,构成所述第一TFT的第一栅电极(104)由与所述氧化物半导体的源极及漏极相同的材料形成。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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