[实用新型]掩膜版存放装置有效
申请号: | 202020532605.6 | 申请日: | 2020-04-10 |
公开(公告)号: | CN212181244U | 公开(公告)日: | 2020-12-18 |
发明(设计)人: | 熊启龙 | 申请(专利权)人: | 合肥清溢光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人: | 宫建华 |
地址: | 230012 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请属于掩膜版生产设备技术领域,尤其涉及一种掩膜版存放装置。本申请的掩膜版存放装置,可通过调整两个夹持组件在对应的旋转组件上的旋转角度,实现对不同尺寸的铬版掩膜版的存放。各夹持组件均能在旋转组件上转动,且通过掩膜版的自重将两个夹持组件朝向中间旋转。再在夹持组件上设有多个卡球,一方面,用于防止掩膜版与第一夹持件和第二夹持件接触,导致影响掩膜版的性能,另一方面,用于夹持固定该掩膜版。此外,设于第二夹持件下方的弹性件,在当两个夹持组件夹持有掩膜版时,能够支撑该夹持组件和掩膜版,当掩膜版取出后,弹性件将加持组件向上顶起,使得顶部开口较大,呈现张开模式,准备下一次存放铬版掩膜版。 | ||
搜索关键词: | 掩膜版 存放 装置 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备