[实用新型]一种等离子体增强化学气相沉积装置有效

专利信息
申请号: 202020553872.1 申请日: 2020-04-15
公开(公告)号: CN212051640U 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 姜兴辉;纪海瑞;曲红杰;白晓磊;林延春 申请(专利权)人: 大连诺豪联恒电子科技有限公司
主分类号: C23C16/511 分类号: C23C16/511;C23C16/458
代理公司: 沈阳天赢专利代理有限公司 21251 代理人: 陈贞
地址: 116000 辽宁省大连市自由贸易试验*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型提供了一种等离子体增强化学气相沉积装置,包括用于气相沉积的反应腔,所述反应腔上方的微波源反应器,所述反应腔中部设置有样品台,所述样品台设置在升降装置上,所述升降装置底端固定在密封板上,所述密封板设置在样品台出入口处,所述密封板底端固定在在驱动板上,所述驱动板的左、右两侧设置有液压驱动装置,所述液压驱动装置包括伸缩杆,所述两侧的伸缩杆底端分别固定在驱动板侧面,所述驱动板下方设置有取样室,所述取样室的左右两侧分别设置有吹扫装置和吸附网,所述吸附网可拆卸的设置在取样室的侧壁上,本实用新型取样方便,使用便捷,从下方取样不会损坏上部的等离子体发生装置等,而且取样过程中外延生长环境清洁无污染。
搜索关键词: 一种 等离子体 增强 化学 沉积 装置
【主权项】:
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