[实用新型]一种等离子体增强化学气相沉积装置有效
申请号: | 202020553872.1 | 申请日: | 2020-04-15 |
公开(公告)号: | CN212051640U | 公开(公告)日: | 2020-12-01 |
发明(设计)人: | 姜兴辉;纪海瑞;曲红杰;白晓磊;林延春 | 申请(专利权)人: | 大连诺豪联恒电子科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/458 |
代理公司: | 沈阳天赢专利代理有限公司 21251 | 代理人: | 陈贞 |
地址: | 116000 辽宁省大连市自由贸易试验*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种等离子体增强化学气相沉积装置,包括用于气相沉积的反应腔,所述反应腔上方的微波源反应器,所述反应腔中部设置有样品台,所述样品台设置在升降装置上,所述升降装置底端固定在密封板上,所述密封板设置在样品台出入口处,所述密封板底端固定在在驱动板上,所述驱动板的左、右两侧设置有液压驱动装置,所述液压驱动装置包括伸缩杆,所述两侧的伸缩杆底端分别固定在驱动板侧面,所述驱动板下方设置有取样室,所述取样室的左右两侧分别设置有吹扫装置和吸附网,所述吸附网可拆卸的设置在取样室的侧壁上,本实用新型取样方便,使用便捷,从下方取样不会损坏上部的等离子体发生装置等,而且取样过程中外延生长环境清洁无污染。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子体 增强 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的