[实用新型]一种真空离子氮化设备上的防护结构有效
申请号: | 202020554332.5 | 申请日: | 2020-04-14 |
公开(公告)号: | CN211947195U | 公开(公告)日: | 2020-11-17 |
发明(设计)人: | 朱喆;赵睿;杨丽琳;张彦峰;梁兰 | 申请(专利权)人: | 深圳市和胜金属技术有限公司 |
主分类号: | C23C8/36 | 分类号: | C23C8/36 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 任志龙 |
地址: | 518000 广东省深圳市光*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种真空离子氮化设备上的防护结构,其包括放置平台,放置平台与放置架相邻设置,放置平台用于放置被吊起的盖体;放置平台上设置有用于限制盖体水平移动的防护组件。本实用新型具有能够为盖体提供一个稳定的放置位置、使得盖体不易掉落砸伤人的效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空 离子 氮化 设备 防护 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
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