[实用新型]线性串联的原子层沉积系统有效
申请号: | 202020670207.0 | 申请日: | 2020-04-27 |
公开(公告)号: | CN212335287U | 公开(公告)日: | 2021-01-12 |
发明(设计)人: | 李哲峰;乌磊;聆领安辛 | 申请(专利权)人: | 深圳市原速光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/54;C23C16/52 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 王径武 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开一种线性串联的原子层沉积系统,其中,所述线性串联的原子层沉积系统包括真空放卷装置、真空收卷装置、至少一个真空沉积装置及至少一个真空卷料辅助装置,真空放卷装置套设有卷料,用于将卷料拉出;真空收卷装置与真空放卷装置间隔设置,真空收卷装置用于将拉出后的卷料回收;至少一个真空沉积装置设于真空放卷装置和真空收卷装置之间,并依次连接;真空沉积装置用于对卷料沉积处理;真空卷料辅助装置设于相邻两个真空沉积装置之间、和/或真空沉积装置与真空放卷装置之间、和/或真空沉积装置与真空收卷装置之间。本实用新型技术方案调整卷料在传送过程中的位置,以改善卷料表面的原子沉积效果。 | ||
搜索关键词: | 线性 串联 原子 沉积 系统 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的