[实用新型]一种真空等离子清洗腔有效

专利信息
申请号: 202020738061.9 申请日: 2020-05-08
公开(公告)号: CN212062379U 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 张永雷 申请(专利权)人: 昆山国华电子科技有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;B08B7/00
代理公司: 苏州企航知识产权代理事务所(普通合伙) 32354 代理人: 朱丹
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提出了一种真空等离子清洗腔,包括腔体和所述腔体侧边的门体,所述腔体顶部设有固定板,所述固定板下部竖直排列设置有若干电极,所述电极上部设有进气板,所述进气板上设有进气接头,所述进气接头处连接有出气硬管,所述出气硬管伸于所述电极之间,所述出气硬管内设有匀气机构,本等离子清洗腔在腔门口设置了进气板,通过进气板上设置的进气管深入至电极板之间,从电极板上部分别进气,能够保证气体在电极板之间分部均匀,并且设置了匀气机构,保证每根出气硬管出气均匀,提高清洗效率。
搜索关键词: 一种 真空 等离子 清洗
【主权项】:
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