[实用新型]一种连续沉积金刚石薄膜设备有效
申请号: | 202020739466.4 | 申请日: | 2020-05-08 |
公开(公告)号: | CN212293743U | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 玄真武;李勇;张怡;何敬晖 | 申请(专利权)人: | 中材人工晶体研究院有限公司;北京中材人工晶体研究院有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/27 |
代理公司: | 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 | 代理人: | 赵奕 |
地址: | 100018 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型涉及一种连续沉积金刚石薄膜设备。包括预沉积室、沉积室、制品待取室及将预沉积室的基片从所述预沉积室依次传输至沉积室、制品待取室的基片传输装置,其中,所述预沉积室、沉积室、制品待取室依次设置且依次连接,预沉积室内充入基片沉积时所需气氛气体,在所述沉积室内当前热丝结构的作用下,依次对进入所述沉积室的多批次基片进行金刚石薄膜沉积,实现了在不更换热丝结构的前提下,多次金刚石膜的沉积,避免了现有技术中由于热丝消耗和中间更换热丝所导致的成本非必要提高问题,有利于金刚石薄膜的推广。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 沉积 金刚石 薄膜 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中材人工晶体研究院有限公司;北京中材人工晶体研究院有限公司,未经中材人工晶体研究院有限公司;北京中材人工晶体研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202020739466.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种线性LED植物灯装置
- 下一篇:一种新型用于医用棉球生产的烘箱结构
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的