[实用新型]半导体材料内部缺陷检测装置有效
| 申请号： | 202020802724.9 | 申请日： | 2020-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN212459400U | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 刘伟阳 | 申请（专利权）人： | 日月科技（辽阳）有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/3563 | 分类号： | G01N21/3563;G01N21/95 |
| 代理公司： | 深圳峰诚志合知识产权代理有限公司 44525 | 代理人： | 赵爱婷 |
| 地址： | 111000 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种半导体材料内部缺陷检测装置。所述半导体材料内部缺陷检测装置包括红外显微镜本体；遮光盒，所述遮光盒设置在所述红外显微镜本体外，所述遮光盒的顶部为开口；滑口，所述滑口开设在所述遮光盒的一侧内壁上；放置板，所述放置板设置在所述滑口内，所述放置板的一侧延伸至所述遮光盒外，所述放置板的另一端延伸至所述遮光盒内；透光镜片，所述透光镜片镶嵌在所述放置板上，所述透光镜片的顶部和底部均延伸至所述放置板外，所述透光镜片位于所述遮光盒的一侧。本实用新型提供的半导体材料内部缺陷检测装置具有使用方便、能够对杂光进行遮挡的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体材料 内部 缺陷 检测 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月科技（辽阳）有限公司，未经日月科技（辽阳）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202020802724.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
