[实用新型]一种MOCVD装置有效
申请号: | 202020891046.8 | 申请日: | 2020-05-25 |
公开(公告)号: | CN212357457U | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
发明(设计)人: | 张瑞龙;郭永超;许超浚 | 申请(专利权)人: | 厦门三安光电有限公司 |
主分类号: | C30B25/08 | 分类号: | C30B25/08;C30B28/14;C30B29/40 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 361100 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开一种MOCVD装置,包括反应腔,反应腔上有密封用的顶盖,顶盖包括相对的内侧表面和外侧表面,内侧表面朝向反应腔的腔体内部空间,其特征在于:MOCVD还包括一个保护罩,保护罩用于罩住顶盖的内侧表面。所述MOCVD顶盖上部包括三种管道,在MOCVD机台拆炉维护过程中,所述三种管道可外接至N2管道中,对顶盖进行持续吹扫。本实用新型提出的MOCVD装置通过保护罩和外接N2吹扫,可减少拆炉过程中顶盖长时间暴露在水氧环境中,减少顶盖内部残留MO源与水氧的反应时长;加快复机速度,提高产能;同时减少生长过程中水氧释放对产品性能的不良影响,提高产品良率。 | ||
搜索关键词: | 一种 mocvd 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门三安光电有限公司,未经厦门三安光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202020891046.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种摄影设备用支架
- 下一篇:冶炼浇注用Φ500mm整体式一模多用电极坯模