[实用新型]等离子体处理装置及蚀刻装置有效
| 申请号： | 202020923036.8 | 申请日： | 2020-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN212182267U | 公开（公告）日： | 2020-12-18 |
| 发明（设计）人： | 张涛;张彬彬;伍凯义;苏财钰;向毅 | 申请（专利权）人： | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/02 | 分类号： | H01J37/02;H01J37/305;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 江舟 |
| 地址： | 402760 重庆市璧*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种等离子体处理装置及蚀刻装置，所述等离子体处理装置通过在蚀刻腔体内设置缓冲组件，所述缓冲组件用于对靠近所述排气管处的物质进行释缓以提高气压分布均匀性，所述缓冲组件包括第一缓冲组件和第二缓冲组件，所述第一缓冲组件位于所述第二缓冲组件与所述排气端的端面之间，所述第一缓冲组件、所述第二缓冲组件和所述端面的中心点均位于同一直线上；所述第一缓冲组件和所述第二缓冲组件均与所述蚀刻腔体的侧壁连接。本申请的等离子体处理装置提高了蚀刻腔体内各处气压的均衡性，尤其是均衡排气管处的气压，且还提高了排气管处的等离子体的分布的均匀性，进而提高蚀刻均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 蚀刻 | ||
【主权项】：
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