[实用新型]一种用CVD法制备镀层的反应炉有效
| 申请号： | 202020930529.4 | 申请日： | 2020-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN212955338U | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 广东双虹新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/458 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 528400 广东省中山市火*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用CVD法制备镀层的反应炉，通过垂直悬挂式设置镀件，且采用气体分配室通入反应气体，还通过尾气收集室排尾气，便于间隙式供气模式，节约气体原料；本技术可对多个不同形状大小的镀件同时进行CVD反应制备镀层；而且结构简单，设备造价低，原料成本低，生产效率高；可在常压形式进行CVD反应，设备易于制造和推广使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cvd 法制 镀层 反应炉 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
