[实用新型]一种用于单晶硅片的清洗沥干装置

摘要

本实用新型公开了一种用于单晶硅片的清洗沥干装置，包括清洗箱，所述清洗箱内部底端两侧分别开设有沥干槽和超声波清洗槽。本实用新型在进行清洗和沥干时先把硅片放置到清洗框内部，再通过控制面板启动移动机构带动电动伸缩杆、清洗框移动到超声波清洗槽上端，再通过控制面板启动电动伸缩杆并带动清洗框往下移动，且使清洗框与超声波清洗槽内部接触进行超声波清洗，当清洗完成后在通过电动伸缩杆带动清洗框上移动并与超声波清洗槽内部分离，再通过控制面板启动移动机构把清洗框移动到沥干槽上端，再启动电动伸缩杆使清洗框移动到沥干槽内部，再通过控制面板同时启动电动风机对放置在清洗框内部的硅片进行沥干即可。