[实用新型]一种氢化非晶硅光学薄膜生产用旋转平台有效
申请号: | 202021111475.5 | 申请日: | 2020-06-16 |
公开(公告)号: | CN213266697U | 公开(公告)日: | 2021-05-25 |
发明(设计)人: | 罗娟 | 申请(专利权)人: | 西安艾美科光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 刘长春 |
地址: | 710000 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种氢化非晶硅光学薄膜生产用旋转平台,包括旋转平台和反应板,所述反应板设于旋转平台上方,且反应板与旋转平台匹配设置,所述旋转平台下方设置有连接板,所述连接板上侧壁对称设置有伸缩外管,且旋转平台下侧壁固定连接有与伸缩外管匹配的伸缩内管,所述伸缩外管与伸缩内管竖直滑动连接,所述连接板与旋转平台之间还通过高度调节装置连接。本实用新型通过在伸缩内管上设置刻度线与高度调节装置配合在一切,可以清楚的反应旋转平台上升的高度,从而快速根据不同需求控制伸缩内管的伸缩量,大大的提高了调节效率,同时又保证了反应的原子和原子团能够均匀的排列在旋转平台上的膜层上,确保光学薄膜成型厚度均匀。 | ||
搜索关键词: | 一种 氢化 非晶硅 光学薄膜 生产 旋转 平台 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的