[实用新型]一种掩膜版框架、掩膜版组件有效
| 申请号： | 202021238443.1 | 申请日： | 2020-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN213295480U | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 钱超;杨波 | 申请（专利权）人： | 江苏高光半导体材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 徐冬涛;竞存 |
| 地址： | 212400 江苏省镇*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种掩膜版框架及其制作方法、掩膜版组件，涉及半导体蒸镀设备技术领域，包括框架本体；所述框架本体包括上表面；所述上表面朝向所述框架本体所承接的掩膜版的一侧；所述框架本体上设有若干个贯穿所述框架本体的第一定位孔；所述第一定位孔上设有凹槽；所述凹槽位于所述上表面，通过该设计，改善了之前蒸镀产品存在的毛刺偏多的问题，通过之前去除毛刺的工艺，会引起Cover/hauling深度不可控及超规。使用本申请制作工艺后该问题得到了很好的解决，而且客户产品良率提高了50％、制作成本下降20％、简化了工艺流程、降低了能源及人力的浪费、提高了生产的效率及稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 框架 组件 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏高光半导体材料有限公司，未经江苏高光半导体材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202021238443.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种新型桌面水族生态瓶
- 下一篇：一种偏心螺栓加工用自动找正装置
- 同类专利
- 专利分类
