[实用新型]一种DLC膜层的制备设备有效
| 申请号： | 202021242147.9 | 申请日： | 2020-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN212505047U | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 张晓岚;谢丑相;王国昌;籍龙占 | 申请（专利权）人： | 杭州朗旭新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06;C23C16/02;C23C16/50;C23C16/26 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王晓坤 |
| 地址： | 310051 浙江省杭州市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种DLC膜层的制备设备，包括设备主体，抽气组件，磁控溅射阴极，基片旋转架，位于设备主体内的等离子体增强化学气相沉积部件，电源接入端头；等离子体增强化学气相沉积部件包括外表面覆盖有导电层且交叉区域为中空状的X型绝缘主体框架，X型绝缘主体框架的四个延伸壁为空心板，交叉区域与空心板的连接处设置有第一通孔，且交叉区域与输气管路相连；位于每个空心板中的两个导电板，且电源接入端头与导电板电连接；与空心板的上表面连接的固定支架。该设备包括磁控溅射阴极和等离子体增强化学气相沉积部件，结合磁控溅射和等离子体增强化学气相沉积两种工艺制备DLC膜层，实现高速高质量的膜层制备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 dlc 制备 设备 | ||
【主权项】：
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