[实用新型]光学级CVD金刚石膜片的制备系统有效

专利信息
申请号: 202021310823.1 申请日: 2020-07-07
公开(公告)号: CN213142181U 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 裴珍玉;张代涛 申请(专利权)人: 天津市宝利欣超硬材料有限公司
主分类号: C23C16/27 分类号: C23C16/27;C23C16/458;C23C16/52;C23C16/503
代理公司: 天津企兴智财知识产权代理有限公司 12226 代理人: 蒋宏洋
地址: 300402 天津市北*** 国省代码: 天津;12
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供了一种光学级CVD金刚石膜片的制备系统,包括反应室,反应室内的上部安装有等离子炬,反应室内的下部设置有沉积区;等离子炬外周设置有励磁线圈;等离子炬与励磁线圈之间具有间隙;反应室外周设置有冷却腔;冷却腔主体成U形;冷却腔的U形两侧区域一直延伸至离子炬与励磁线圈之间的间隙内形成冷却用的通道;冷却腔内螺旋分布设置有冷却管,冷却管内有冷却水;沉积区内可升降设置有升降台;升降台上方转动设置有基盘;基盘底面中央固定设置有基座。本实用新型所述的光学级CVD金刚石膜片的制备系统,操作方便,适用于制备光学级CVD金刚石膜片。
搜索关键词: 光学 cvd 金刚石 膜片 制备 系统
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津市宝利欣超硬材料有限公司,未经天津市宝利欣超硬材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202021310823.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top