[实用新型]光学级CVD金刚石膜片的制备系统有效
申请号: | 202021310823.1 | 申请日: | 2020-07-07 |
公开(公告)号: | CN213142181U | 公开(公告)日: | 2021-05-07 |
发明(设计)人: | 裴珍玉;张代涛 | 申请(专利权)人: | 天津市宝利欣超硬材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/458;C23C16/52;C23C16/503 |
代理公司: | 天津企兴智财知识产权代理有限公司 12226 | 代理人: | 蒋宏洋 |
地址: | 300402 天津市北*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供了一种光学级CVD金刚石膜片的制备系统,包括反应室,反应室内的上部安装有等离子炬,反应室内的下部设置有沉积区;等离子炬外周设置有励磁线圈;等离子炬与励磁线圈之间具有间隙;反应室外周设置有冷却腔;冷却腔主体成U形;冷却腔的U形两侧区域一直延伸至离子炬与励磁线圈之间的间隙内形成冷却用的通道;冷却腔内螺旋分布设置有冷却管,冷却管内有冷却水;沉积区内可升降设置有升降台;升降台上方转动设置有基盘;基盘底面中央固定设置有基座。本实用新型所述的光学级CVD金刚石膜片的制备系统,操作方便,适用于制备光学级CVD金刚石膜片。 | ||
搜索关键词: | 光学 cvd 金刚石 膜片 制备 系统 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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