[实用新型]防止冷点偏移装置以及光学晶体生长设备有效
| 申请号： | 202021330222.7 | 申请日： | 2020-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN212713843U | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 杨勇;赖维明 | 申请（专利权）人： | 成都东骏激光股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/20 | 分类号： | C30B15/20;C30B28/10 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 毕翔宇 |
| 地址： | 611600 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本申请涉及光学晶体生长设备技术领域，尤其是涉及一种防止冷点偏移装置以及光学晶体生长设备。一种防止冷点偏移装置，包括：坩埚、固定构件以及加热件；坩埚设置在所述固定构件上，加热件环绕所述坩埚设置；固定构件能够固定坩埚以使坩埚与加热件同轴。本申请中利用固定构件固定坩埚，使得坩埚与所述加热件同轴，即保证了坩埚的轴线与加热件发出热量构成的温场的轴线重合，从而确保晶体的冷点不偏移，有利于引晶和放肩，保证了坩埚内的晶体各处生长速率一致。 | ||
| 搜索关键词： | 防止 冷点 偏移 装置 以及 光学 晶体生长 设备 | ||
【主权项】：
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