[实用新型]一种带有废料清理的光刻机有效
申请号: | 202021398310.0 | 申请日: | 2020-07-08 |
公开(公告)号: | CN212364790U | 公开(公告)日: | 2021-01-15 |
发明(设计)人: | 秦有贵;徐锋;李华;郭杰 | 申请(专利权)人: | 上海芯立电子科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200120 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种带有废料清理的光刻机,包括:机箱、光源以及废料麻袋,所述机箱顶端安装有光源,所述光源底端安装有掩膜板,所述掩膜板底端安装有第一棱镜,所述第一棱镜底端安装有第二棱镜,所述第二棱镜底端安装有物镜,所述物镜底端安装有曝光台,所述曝光台一侧开设有进风口,所述曝光台另一侧安装有进风管,所述进风管底端安装有废料箱,所述废料箱两侧开设有出风口,本实用新型胶固化胶添加装置具有能够清理硅片以及曝光台上黏附的颗粒,防止后续硅片固定位置凸起,以及曝光时凸起区域发生失焦,影响产品良率的同时具有防止停机清扫曝光平台,造成光刻机产能损失率,提升产能,节约时间的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 带有 废料 清理 光刻 | ||
【主权项】:
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