[实用新型]一种提高钼管靶材密度机构有效

专利信息
申请号: 202021407168.1 申请日: 2020-07-16
公开(公告)号: CN212955318U 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 张学智;温艳玲;龙训初 申请(专利权)人: 河北冠靶科技有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C22B9/02;C22B34/34
代理公司: 北京化育知识产权代理有限公司 11833 代理人: 尹均利
地址: 050000 河北省*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 实用新型公开了一种提高钼管靶材密度机构,包括真空气密箱,所述真空气密箱下表面固定安装有进水孔,所述真空气密箱位于进水孔前方固定安装有废气排放口,所述真空气密箱位于废气排放口前方固定安装有出料管,所述真空气密箱位于出料管前方固定安装有出水孔,所述出料管下端固定安装有防堵阀,所述真空气密箱上表面固定安装有送料管,所述送料管上端螺旋连接有密封盖,所述真空气密箱位于送料管前方固定安装有激光枪。本实用新型所述的一种提高钼管靶材密度机构,能够保证反应的迅速进行,且能够进一步熔化钼,双重的熔化除杂反应之后,钼金属的纯度会进一步被提升,从而达到了更高密度的钼靶材。
搜索关键词: 一种 提高 钼管靶材 密度 机构
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