[实用新型]一种镀膜均匀的真空镀膜装置有效
| 申请号： | 202021419640.3 | 申请日： | 2020-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN212894956U | 公开（公告）日： | 2021-04-06 |
| 发明（设计）人： | 许元理;汪曙新;刘扬 | 申请（专利权）人： | 深圳市联生佳科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/22 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市坪*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括镀膜仪，镀膜仪内设置有密封的镀膜腔，镀膜腔的腔底中心设置有凸起部，凸起部上设置有中心凹槽，中心内固定有转动组件，转动组件上固定有支撑板，支撑板遮挡住凸起部，支撑板上设置有置物槽，支撑板和镀膜腔的侧面形成有空隙，支撑板上设置有多个漏液孔，漏液孔内设置有密封块，密封块上形成有漏液通道；镀膜腔的内壁固定有多块刮板，刮板延伸至镀膜腔的上端；镀膜腔的底部贴合有隔离膜，隔离膜的中心处设置有吸水块。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 均匀 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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