[实用新型]一种在基板上形成选择性发射极的制造装置有效

专利信息
申请号: 202021461158.6 申请日: 2020-07-22
公开(公告)号: CN212485350U 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 凌步军;朱鹏程;袁明峰;吕金鹏;赵有伟;滕宇;孙月飞;冷志斌;冯高俊 申请(专利权)人: 江苏亚威艾欧斯激光科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;B23K26/064
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 苗晓娟
地址: 225600 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验区苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种在基板上形成选择性发射极的制造装置,包括:激光发射部、光转换部、偏光镜、光束扩大部、控制器、箱体和架体。激光发射部发射激光束;光转换部将激光束转换成相应的偏光;偏光镜允许未经偏光的激光束和经过偏光的激光束中的一种透射通过;光束扩大部将经由偏光镜透射的激光束扩大至设定倍数;熔融激光发出器接受扩大后的激光束并发射出熔融激光束至基板上设定位置;控制器与光转换部电性连接;其中上述各元器件的底座均安装在所述架体上,控制器控制光转换部开启或关闭,以使熔融激光束在到达预设选择性发射极以外区域时关闭,在到达预设选择性发射极区域时开启。本发明制造装置,不需要掩膜即可形成选择性发射极。
搜索关键词: 一种 基板上 形成 选择性 发射极 制造 装置
【主权项】:
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