[实用新型]一种高精度硅晶圆的背面切割对位线制作装置有效

专利信息
申请号: 202021518784.4 申请日: 2020-07-28
公开(公告)号: CN213531233U 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 陶为银;巩铁建;蔡正道 申请(专利权)人: 河南通用智能装备有限公司
主分类号: B23K26/38 分类号: B23K26/38;B23K26/70;B23K26/402
代理公司: 郑州银河专利代理有限公司 41158 代理人: 安申涛
地址: 450000 河南省郑州市高新技术产业*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 本新型涉及一种高精度硅晶圆的背面切割对位线制作装置,包括激光标刻装置及硅晶圆承载台,硅晶圆承载台安装在激光标刻装置的作业台上,并位于激光切割头下方,且激光标刻装置的控制电路与硅晶圆承载台电气连接,硅晶圆承载台包括承载基座、底座、定位槽、导向柱、伸缩驱动机构、转台机构、驱动导轨、电动卡爪、激光划线灯、CCD摄像头。本新型一方面有效的简化了硅晶圆刻画定位线时定位机构的结构,并提高了定位对中操作作业的灵活性及精;另一方面有效的提高了定位线定位的精度,并省去了偏饭对硅晶圆进行夹装及二次定位刻画操作,提高了定位刻画作业的工作效率,从而降低了定位线刻画作业的成本和加工误差。
搜索关键词: 一种 高精度 硅晶圆 背面 切割 对位 制作 装置
【主权项】:
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