[实用新型]一种太阳能电池PECVD镀膜装置有效
申请号: | 202021524052.6 | 申请日: | 2020-07-29 |
公开(公告)号: | CN212894965U | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 黄镇 | 申请(专利权)人: | 中建材浚鑫科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;H01L31/18 |
代理公司: | 北京华际知识产权代理有限公司 11676 | 代理人: | 范登峰 |
地址: | 214443 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种太阳能电池PECVD镀膜装置,包括硅片台,所述硅片台包括放置台,所述放置台包括放置台体,所述放置台体上设置有多个硅片槽,所述硅片槽中间连接有多个放置台卡块,所述放置台卡块中间设置有圆孔,所述硅片槽一侧设置有硅片置入口,所述硅片台还包括镀膜台,所述放置台贴合镀膜台,所述镀膜台包括镀膜台体,所述镀膜台体侧面设置有挡板,所述镀膜台体内侧设置有镀膜台卡块,所述镀膜台卡块上连接有支撑钉,所述支撑钉顶部安装有滚子,所述放置台和放置台一侧连接有固定块,所述固定块通过固定柱和固定螺母将硅片台固定于支撑柱上,所述支撑柱一侧安装有双向电机,本实用新型,具有采用水平置入硅片的方式,可以同时镀膜两面和减小卡点印的特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 太阳能电池 pecvd 镀膜 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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