[实用新型]一种PVD多弧真空镀膜机蒸发源有效

专利信息
申请号: 202021538701.8 申请日: 2020-07-28
公开(公告)号: CN212713728U 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 邓斌;朱善元;舒兴莲;罗亚琼 申请(专利权)人: 重庆特钛超膜工贸有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32
代理公司: 重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙) 50221 代理人: 袁茹坤
地址: 401329 重*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 实用新型提供一种PVD多弧真空镀膜机蒸发源,包括蒸发源本体和冷却水管,蒸发源本体内具有用于冷却安装于蒸发源本体上的靶块的冷却水腔,冷却水管为两根,冷却水管包括第一管体和第二管体,两根第一管体的前端分别连接冷却水腔的入口端和出口端,两根第一管体的后端均固设有连接头,两根第二管体的前端分别连接在两个连接头的后端,两根第二管体的后端均连接真空镀膜机的冷却水箱;连接头包括第一连接部和第二连接部。由于采用了上述技术方案,在真空镀膜机的真空腔的腔壁上拆卸蒸发源本体时更加方便;方便将蒸发源本体转移至操作室进行灰尘的清理和导电性的检测。
搜索关键词: 一种 pvd 真空镀膜 蒸发
【主权项】:
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