[实用新型]一种晶界扩散工艺用真空反应系统有效
| 申请号： | 202021648959.3 | 申请日： | 2020-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN212482067U | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 张永军 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创磁电科技有限公司 |
| 主分类号： | F27B5/05 | 分类号： | F27B5/05;F27B5/14;F27B5/16;F27D1/12;F27D1/18;H01F41/02 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 赵万凯 |
| 地址： | 101200 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请涉及晶界扩散工艺技术领域，尤其是涉及一种晶界扩散工艺用真空反应系统，包括能够对工件进行加热的真空炉，真空炉的炉体包括内部中空的炉壳，真空炉的外侧设置有快冷装置，快冷装置包括一端密封的供水管和回水管，供水管与炉壳内部的空腔、回水管与炉壳内部的空腔均连通有联通管，本申请具有加快烧结设备的冷却速度，实现烧结设备的快速冷却的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 扩散 工艺 真空 反应 系统 | ||
【主权项】：
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