[实用新型]具大电流及双闸极的碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片有效

专利信息
申请号: 202021688890.7 申请日: 2020-08-13
公开(公告)号: CN212783461U 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 张稚菱 申请(专利权)人: 奈沛米(上海)半导体有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/08;H01L29/10
代理公司: 北京汇智英财专利代理事务所(普通合伙) 11301 代理人: 何佳
地址: 200120 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种具大电流及双闸极的碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片,包括:一晶片本体;其包括源极、闸极及汲极;该碳化硅V型金氧半导体场效晶体(VMOSFET)晶片的源极及闸极配置在该晶片本体的上方,而该VMOSFET晶片的汲极则配置在下方;以及其中该闸极的面积大于3mm×3mm;此面积使得该碳化硅V型金氧半导体场效晶体晶片可以承受相当大的电流,而且外接的导线可以很容易地安装到该闸极上。
搜索关键词: 电流 双闸极 碳化硅 型金氧 半导体 晶体 晶片
【主权项】:
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