[实用新型]一种真空蒸发镀膜设备有效
| 申请号： | 202021733023.0 | 申请日： | 2020-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN212293733U | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | 闫海涛 | 申请（专利权）人： | 布勒莱宝光学设备（北京）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京知汇林知识产权代理事务所(普通合伙) 11794 | 代理人： | 杨华 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种真空蒸发镀膜设备，其中膜料供给机构包括供料器(41)和供料座(31)，所述供料座(31)固定于所述真空镀膜室(1)的壁部，所述供料器(41)设置于所述供料座(31)内并适于相对于所述供料座(31)移动，以使在供料状态时所述供料器(41)的出料口(44)露出所述供料座(31)，在镀膜工作状态时所述供料器(41)的出料口(44)被所述供料座(31)挡闭。整个供料过程仅需供料器相对于供料座移动，供料机构简单，供料步骤简便，提高了膜料供给及整个镀膜工艺效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 蒸发 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
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