[实用新型]曝光装置有效
| 申请号： | 202021749020.6 | 申请日： | 2020-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN212586695U | 公开（公告）日： | 2021-02-23 |
| 发明（设计）人： | 李世波 | 申请（专利权）人： | 深圳市爱普拓思科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/133 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 罗平 |
| 地址： | 518051 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及一种曝光装置，包括：液晶显示掩膜；控制器，与所述液晶显示掩膜连接，用于控制所述液晶显示掩膜显示预设的图案；光源，设置于所述液晶显示掩膜的一侧，所述光源发出的第一出射光照射并穿过所述液晶显示掩膜的表面射出第二出射光；其中，所述第二出射光用于照射被曝光物，以使得被曝光物被所述第二出射光照射的表面曝光显示出预设的形状图案。本申请中液晶显示掩膜显示预设的图案不需要使用额外的耗材，成像简单、成本低且成像的准确度高，因而能够有效地降低曝光成本，并提高曝光精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市爱普拓思科技有限公司，未经深圳市爱普拓思科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202021749020.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
