[实用新型]一种全自动高效单晶硅双面抛光机有效
申请号: | 202021749222.0 | 申请日: | 2020-08-20 |
公开(公告)号: | CN213106223U | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 陈峰 | 申请(专利权)人: | 浙江众晶电子有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B7/22;B24B41/06;B24B41/00;B24B45/00 |
代理公司: | 温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙) 33390 | 代理人: | 钱磊 |
地址: | 324302 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种全自动高效单晶硅双面抛光机,涉及单晶硅加工领域,包括底座,所述底座顶部的正中设置有承台,承台底部的四角分别固定连接有弹力伸缩导杆,底座顶部的两侧对称固定连接有支撑台,两个支撑台相对一侧的中部对称设置有爪形夹持夹具,爪形夹持夹具远离支撑台一侧的正中活动连接有延长轴,延长轴远离爪形夹持夹具的一端固定连接有打磨头,爪形夹持夹具另一侧的正中固定连接有转动轴。本实用新型所述的一种全自动高效单晶硅双面抛光机,使压板靠近承台对单晶硅进行夹持,通过在承台的底部设置缓冲区域,在夹持过程中缓慢增加对异形单晶硅支撑点的压力,方便对单晶硅进行固定,进而为加工提供便利。 | ||
搜索关键词: | 一种 全自动 高效 单晶硅 双面 抛光机 | ||
【主权项】:
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