[实用新型]一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构有效
| 申请号： | 202021750004.9 | 申请日： | 2020-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN212542350U | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 陆桥宏;任志强;王小艳;何东旺 | 申请（专利权）人： | 无锡展硕科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 | 代理人： | 杨立秋 |
| 地址： | 214000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及刻蚀机用刻蚀电极结构技术领域，具体涉及一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构，包括喷淋头电极盘，喷淋头电极盘的顶部开设有内腔，内腔的底部均匀开设有贯穿的喷淋孔，喷淋头电极盘的顶部外侧设有下安装环，下安装环的顶部内侧端开设有下密封槽、外侧端周向开设有下安装孔，喷淋头电极盘的上方设有分配盘，分配盘的顶部和底部对称开设有球面凹槽，分配盘的顶部均匀开设有贯穿底部的分配孔，分配盘的底部外侧设有上安装环，本实用新型提供了一种刻蚀机用刻蚀电极的上电极结构，通过一系列结构的设计和使用，解决了大多结构单一、仅仅能够起到作为导电电极使用，而不能提高工艺气体分配时的均匀效果，同时安装不方便的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 电极 结构 | ||
【主权项】：
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