[实用新型]一种改进型单晶硅双面抛光机有效
申请号: | 202021754896.X | 申请日: | 2020-08-20 |
公开(公告)号: | CN213106226U | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 陈峰 | 申请(专利权)人: | 浙江众晶电子有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B41/06;B24B41/00 |
代理公司: | 温州青科专利代理事务所(特殊普通合伙) 33390 | 代理人: | 钱磊 |
地址: | 324302 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种改进型单晶硅双面抛光机,包括底座、支撑柱、抛光组件、调节杆、移动块、锁紧旋钮、安装板、夹持组件和单晶硅本体,所述底座的顶部固定安装有支撑柱,所述支撑柱的右侧设置有抛光组件,所述底座的顶部固定安装有调节杆,所述调节杆的表面滑动连接有移动块,所述移动块的正表面设置有锁紧旋钮,所述移动块的顶部固定安装有安装板,所述安装板的左侧表面固定安装有夹持组件。本实用新型通过对常用的抛光设备进行改进,使其在使用时能够同时对单晶硅的两个面进行加工,大大提高了加工的效率,通过设置的夹持组件,使其在使用时能够将单晶硅本体稳固夹持,防止单晶硅本体在加工的过程中发生位移。 | ||
搜索关键词: | 一种 改进型 单晶硅 双面 抛光机 | ||
【主权项】:
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