[实用新型]一种用干冰技术高效清洗半导体封装模具的装置有效
申请号: | 202021825743.X | 申请日: | 2020-08-27 |
公开(公告)号: | CN213440649U | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 胡平;曹宇航 | 申请(专利权)人: | 迪史洁(上海)清洗设备有限公司 |
主分类号: | B29C33/72 | 分类号: | B29C33/72;B08B7/00;B08B13/00;B02C4/08;B02C4/42 |
代理公司: | 上海骁象知识产权代理有限公司 31315 | 代理人: | 刘翔 |
地址: | 201804 上海市嘉*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用干冰技术高效清洗半导体封装模具的装置,涉及干冰清洗装置技术领域,包括半导体封装模具、干冰清洗装置和放置机构;本实用新型设置的干冰清洗装置手持喷嘴距离清洗表面3‑5cm喷射干冰颗粒,干冰以超音速喷射到表面,干冰瞬间升华,产生冲击微爆破效应,污渍受冷收缩,强大气浪将污渍从工件表面剥离去除,简化工作流程,提高良品率,提高工作效率,降低清洗成本,没有任何二次污染;通过碎冰机构设置的转动杆、定齿环和碎冰齿的相互配合,实现了块状干冰的高效破碎,结构简单,操作方便。 | ||
搜索关键词: | 一种 干冰 技术 高效 清洗 半导体 封装 模具 装置 | ||
【主权项】:
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